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本發明通過對石墨進行高溫(wen)處理,用(yong)(yong)CVD方(fang)法在石墨表面(mian)制備SiC內層(ceng)(ceng),用(yong)(yong)涂刷(shua)的(de)(de)方(fang)法在CVDSiC內層(ceng)(ceng)表面(mian)制備Y2O3外層(ceng)(ceng),用(yong)(yong)液相浸(jin)漬的(de)(de)方(fang)法對Y2O3外層(ceng)(ceng)進行致密化,制備由CVDSiC。

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1185CN201110429033.4一種微(wei)孔石(shi)墨碳化硅磚1186CN201110441477.X一種石(shi)墨微(wei)粉(fen)裝(zhuang)填1292CN201210111232.5一種聚四氟乙烯浸(jin)漬石(shi)墨換熱塊(kuai)的(de)生產(chan)方法(fa)1293CN201210124239.0。

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